真空鍍膜技術(shù)是真空泵應用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已普遍地應用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開(kāi)發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民

用制品、外表科學(xué)以及科學(xué)研討等范疇中。真空鍍膜所采用的辦法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流堆積鍍以及分子束外延

等。此外還有化學(xué)氣相堆積法。假如從真空鍍膜的目的是為了改動(dòng)物質(zhì)外表的物理、化學(xué)性能的話(huà)，這一技術(shù)又是真空外表處置

技術(shù)中的重要組成局部?，F就其幾個(gè)主要應用方面做一簡(jiǎn)單引見(jiàn)。首先在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英外表上鍍一層或幾層不

同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無(wú)反射（即增透膜）或者作任何預期比例的反射或透射資料，也能夠作成對某種波長(cháng)的吸收

，而對另一種波長(cháng)的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開(kāi)端、不斷到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都

很需求。增透膜則大量用于照相和各種激光器開(kāi)端、不斷到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃，都很需求。增透膜則大量用于照相機和

電視攝象機的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的位置。各種范圍的繼承電路。包括存貯器、運算器、通知邏輯元

件等都要采用導電膜、絕緣膜和維護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦

合器件（ CCD ）也都甬道各種薄膜。在顯現器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯現安裝的透明導電膜、攝像管光導膜

、顯現管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻，鉻或金屬陶瓷能夠制造電阻，在塑料上

蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等能夠制造電容器，蒸發(fā)硒能夠得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇能夠制造磁致伸縮的起聲元

件等等。真空蒸發(fā)還能夠用于制造超導膜和慣性約束劇變反響用的微珠鍍層。此外還能夠對珠寶、鐘表外殼外表、紡織品金屬花

紋、金絲銀絲線(xiàn)等蒸鍍裝飾用薄膜，以及采用濺射鍍或離子鍍對刀具、模具等制造超硬膜。近兩年內所興起的多弧離子鍍制備鈦

金制品，如不銹鋼薄板、鏡面板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄桿等目前正在盛行。